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macchina compatta sputtering magnetron plasma 2 pollici rf per film sottili non metallici

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  • Indirizzo : No. 5 Nanshan Road, Huli District, Xiamen City, Fujian Province, China
macchina compatta sputtering magnetron plasma 2 pollici rf per film sottili non metallici

macchina compatta sputtering magnetron plasma 2 pollici rf per film sottili non metallici

  • :

    VTC-2RF
  • MOQ :

    1
  • :

    20 days
  • Compliance:

    CE Certified
  • Warranty:

    1 year
  • Delivery Time:

  • Posta elettronica :

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macchina compatta sputtering magnetron plasma 2 pollici rf per film sottili non metallici


vtc-2rf è un sistema di sputtering al magnetron al plasma a testa singola compatto da 2 "con rivestimento non metallico, principalmente a strato sottile di ossido. Integra tutti i componenti in un mobile stand a un piano, tra cui fonte di alimentazione RF, camera a vuoto al quarzo, pompa per vuoto, acqua di ricircolo monitor di spessore di chiller e film ecc. è un rivestimento eccellente ed economico per il rivestimento di film sottile di materiale non conduttivo in r & d; d.

specificazioni

potenza di ingresso

  • 220 vac, 50 / 60hz, monofase
  • 800 w (compresa la pompa)
  • se la tensione è di 110 vac, è necessario un trasformatore da 1000 w, fare clic sull'immagine a sinistra per ordinare

fonte di energia

  • uno Generatore 13,5 mhz, 300 w rf con abbinamento automatico la funzione è integrata nell'armadio e collegata a una testa sputtering da 2 ".
  • opzionale: è disponibile una fonte di alimentazione sputtering cc per il rivestimento di materiale metallico

testa sputtering magnetron



  • sono incluse una testina sputtering da 2 "magnetron con giubbotti di raffreddamento ad acqua e inserita nella camera al quarzo tramite un morsetto rapido
  • un otturatore è costruito sulla flangia (azionata manualmente)
  • è necessario un refrigeratore d'acqua a ricircolo a controllo digitale da 16 l / min per il raffreddamento delle testine sputtering del magnetron
  • La testa sputtering da 1 "è sostituibile e opzionale a un costo aggiuntivo
  • Il cavo RF da 148 cm è sostituibile con un costo aggiuntivo

bersaglio sputtering

  • dimensione nominale richiesta: 2 "diametro x 1/4" spessore max
  • un target sio2 è incluso per il test demo.
  • target ceramico al2o3 consiglia il metodo di rivestimento
  • obiettivi sputtering da 2 "opzionali (con piastra di supporto) sono disponibili su richiesta a un costo aggiuntivo.

Camera sottovuoto

  • camera a vuoto: 160 mm od x 150 mm id x 250 mm altezza. realizzato in quarzo di elevata purezza
  • flangia di tenuta: diametro 165 mm. realizzato in alluminio con o-ring in silicone per alte temperature
  • è inclusa una copertura in rete di acciaio inossidabile per proteggere al 100% le radiazioni RF dalla camera
  • livello di vuoto: 1.0e-2 torr con pompa meccanica a doppio stadio inclusa e 1.0e-5 torr con turbopompa opzionale

supporto del campione

  • il supporto del campione è ruotabile e riscaldabile in un riscaldatore in ceramica con coperchio in acciaio inossidabile
  • la dimensione del supporto del campione: 50 mm di diametro per 2 "wafer max
  • la velocità di rotazione è regolabile: 1 - 10 rpm per un rivestimento uniforme
  • la temperatura del supporto è regolabile da RT a 500 ° C max con precisione +/- 1,0 ° C tramite regolatore di temperatura digitale.
  • Il supporto del campione di riscaldamento 800- 1000ºc è disponibile su richiesta su richiesta.
  • è disponibile un supporto opzionale per le vibrazioni per il rivestimento power pvd. (foto 3 sotto)

stazione della pompa per vuoto


  • La porta per vuoto kf25 è integrata per il collegamento a una pompa per vuoto.
  • è necessaria una pompa per vuoto con adattatore kf25, ma non inclusa. Fare clic sull'immagine per ordinare separatamente.
  • livello di vuoto: 1.0e-2 torr con pompa meccanica a doppio stadio e 1.0e-5 torr con la turbopompa

opzionale

  • Il sensore di spessore al quarzo di precisione è opzionale, che può essere incorporato nella camera per monitorare lo spessore del rivestimento con una precisione di 0,10 Å. il laptop è necessario per lo spessore del display corve

dimensioni d'ingombro

peso netto

  • 70 kg

garanzia e amp; conformità

  • una garanzia limitata di un anno con supporto a vita
  • certificato ce
  • la certificazione nrtl o csa è disponibile su richiesta a un costo aggiuntivo

note applicative

  • questo rivestimento sputtering magnetronico compatto da 2 "rf è progettato per il rivestimento di film sottili di ossido su substrati a singolo cristallo di ossido, che di solito non richiedono un alto vuoto
  • per favore usa & gt; 5n di purezza ar gas per sputtering al plasma
  • per la migliore resistenza di adesione pellicola-substrato, pulire la superficie del substrato prima del rivestimento:
    • pulizia ad ultrasuoni con i seguenti bagni sequenziali - (1) acetone, (2) alcool isopropilico - per rimuovere olio e grasso. asciugare il substrato con n2, quindi cuocere a caldo sotto vuoto per rimuovere l'umidità assorbita
    • la pulizia al plasma può essere necessaria per irruvidire la superficie, attivare i legami chimici superficiali o rimuovere la contaminazione aggiuntiva
    • uno strato tampone sottile (~ 5 nm), come cr, ti, mo, ta, potrebbe essere applicato per migliorare l'adesione di metalli e leghe
  • per prestazioni ottimali, i target non conduttivi devono essere installati con una piastra di supporto in rame. fare riferimento al video di istruzioni di seguito (n. 3) per il bonding target
  • tmax usa i rivestimenti che hanno rivestito con successo zno su al 2 o 3 substrato a 500 ° c (profilo xrd in figura 5)
  • non utilizzare acqua di rubinetto nel refrigeratore d'acqua. utilizzare di acqua, acqua distillata o additivi anticorrosivi come colante.





Magnetron Sputtering Coating









pacchetto:

1 pacchetto standard esportato: protezione anticollisione interna, confezione esterna in scatola di legno per esportazione.

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